電解加熱淬火(huo):将工(gong)件置(zhi)于酸(suan)、堿或鹽類(lei)水溶(rong)液的電解(jie)液中(zhong)，工件接陰極，電(dian)解槽(cao)接(jie)陽(yang)極。接(jie)通直(zhi)流電後電(dian)解液被電(dian)解，在(zai)陽極(ji)上(shang)放(fang)出氧(yang)，在工件上放出氫。氫(qing)環(huan)繞工件(jian)造成(cheng)氣膜，成爲(wei)一電阻體而發(fa)生熱(re)量，将(jiang)工件表面(mian)快(kuai)速加熱(re)到淬火(huo)溫(wen)度，而後斷(duan)電,氣膜立(li)刻消散,電(dian)解液(ye)即成(cheng)爲淬(cui)冷介(jie)質，使(shi)工件(jian)表面(mian)快速冷(leng)卻而淬(cui)硬。常用(yong)的(de)電解(jie)液爲含(han) 5～18%碳(tan)酸鈉(na)的水(shui)溶(rong)液。電解加熱(re)方(fang)式(shi)簡單(dan)，處理時光(guang)短，加(jia)熱時(shi)光僅(jin)需5～10秒(miao),制作率(lü)高(gao)，淬冷(leng)畸變(bian)小，适(shi)于小(xiao)零件(jian)的(de)大(da)量量(liang)制作(zuo)，已用于發(fa)念頭排氣(qi)閥杆端部(bu)的表面淬(cui)火。
激光熱(re)處理:激光(guang)在熱(re)處理(li)中的使用研讨(tao)始于70時代初，随(sui)後即由(you)試(shi)驗室(shi)研讨(tao)階段進入(ru)制作(zuo)使(shi)用(yong)階段。當始(shi)末(mo)聚(ju)焦的(de)高能(neng)量(liang)密度 (106瓦(wa)/厘米2)的激光映(ying)射金屬表(biao)面時(shi)，金屬表面在百(bai)分之幾秒甚而(er)千分(fen)之幾秒内(nei)擡高到淬火溫(wen)度。由(you)于映(ying)射點(dian)升溫(wen)獨(du)特(te)快，熱(re)量來不(bu)足(zu)傳到(dao)周圍的(de)金屬，因(yin)此在(zai)停止激光(guang)映射(she)時，映(ying)射點周圍(wei)的(de)金屬便(bian)起淬(cui)冷(leng)介質的(de)作用而(er)大量吸(xi)熱，使映射(she)點快(kuai)速冷(leng)卻，得(de)到極(ji)細的(de)組織(zhi)，擁有(you)很高(gao)的力學功(gong)能。如加熱溫度(du)高至(zhi)使(shi)金(jin)屬表(biao)面熔(rong)化(hua)，則(ze)冷卻(que)後不妨取得一(yi)層平(ping)滑的(de)表面，這種(zhong)操(cao)縱稱爲(wei)上光。激光(guang)加熱也可(ke)用于片面(mian)合金(jin)化處(chu)理，即(ji)對工(gong)件(jian)易磨損(sun)或需求耐(nai)熱的部位先(xian)鍍(du)一層(ceng)耐磨(mo)或耐熱金屬，或(huo)許塗覆一(yi)層含耐(nai)磨(mo)或耐熱金(jin)屬的(de)塗料(liao)，而後用激(ji)光映(ying)射使(shi)其快(kuai)速熔(rong)化，造(zao)成(cheng)耐(nai)磨或(huo)耐熱合金層。在(zai)需求耐熱的部(bu)位先(xian)鍍上一層(ceng)鉻，而(er)後用激光(guang)使之(zhi)快速熔化(hua)，造成(cheng)硬的(de)抗回(hui)火的(de)含(han)鉻(ge)耐熱(re)表層(ceng)，不妨大大(da)擡高(gao)工件(jian)的運(yun)用壽(shou)命(ming)和耐熱(re)性。
電(dian)子(zi)束(shu)熱處(chu)理:70時代(dai)起(qi)始研(yan)讨和使用。前期(qi)用于(yu)薄鋼帶、鋼(gang)絲的(de)連續退火(huo),能量密度最高(gao)可達108瓦/厘米 2。電(dian)子束表面(mian)淬火(huo)除應在真空中(zhong)進行外(wai),其(qi)餘特(te)點與(yu)激光相同(tong)。當電子束轟擊(ji)金屬(shu)表面時，轟(hong)擊點被快(kuai)速加(jia)熱。電子束穿透(tou)原料的深(shen)度取(qu)決于加速電壓(ya)和原料(liao)密(mi)度。例如,150千瓦(wa)的(de)電子(zi)束在(zai)鐵表(biao)面上(shang)的評(ping)論穿透深(shen)度大(da)抵爲(wei)0.076毫米(mi);在鋁表(biao)面上則(ze)可達(da) 0.16毫(hao)米(mi)。電子(zi)束在(zai)很短時光(guang)内轟擊表(biao)面，表面溫度(du)快速擡(tai)高，而(er)基體(ti)仍維(wei)持冷(leng)态。當電子(zi)束停(ting)止轟擊時(shi)，熱量快速向冷(leng)基體金屬(shu)傳導(dao)，從而(er)使加(jia)熱表(biao)面自行(hang)淬火。爲(wei)了有(you)用地進行(hang)"自冷淬(cui)火(huo)"，悉數(shu)工件的(de)體積和(he)淬火表層(ceng)的體積之(zhi)間起碼要(yao)維持(chi)5∶1的比例。表(biao)面溫度和淬透(tou)深度還與(yu)轟擊(ji)時光(guang)相(xiang)關。電子(zi)束熱(re)處理(li)加熱速度(du)快，奧氏體(ti)化的時光僅零(ling)點幾秒(miao)甚而更(geng)短，因此(ci)工件表面晶粒很細，硬(ying)度比(bi)通(tong)常熱處(chu)理高(gao)，并擁有優(you)良的力學(xue)功能。
